克项目了，当然他的攻克小组中的成员倒是都没有闲着，而是继续做着其他的任务，另外三位教授知道林晓在攻克理论上的问题，这方面他们插不了手，于是就又计算出了好几种能够实现对X光放大缩小的结构。

　　这些结构在所选元素上不尽相同，除了之前他们搞出来的那种纯硅晶体，现在又搞出了碳化硅晶体，以及其他一些非单质的晶体，这样一来，他们的备选方案也就多了，只要林晓在理论上完成了突破，他们就能根据这多种方案，选出其中成本最低的一种。

　　所以，这件事情还是得等林晓先把电子拓扑成键理论给搞出来了再说。

　　当然，林晓作为这些工作的领导，尽管他主要负责的还是技术上面的东西，不过过年期间的安排，还是得由他下达的。

　　随后，他便拿出手机开始安排了起来。

　　首先是他们的副总设计师，这位副总师叫杨凯平，本身是魔都微电子集团光刻机的首席研发人员，在魔都微电子集团研发的600系列光刻机中贡献了巨大的力量。

　　魔都微电子的600系列光刻机，其采用ArF准分子激光光源，和DUV光刻机一样，不过因为技术上的差距，600系列光刻机只能用来生产90nm芯片的光刻机，90nm看起来很拉，远不如能生产7nm的DUV和4nm的EUV，但对于华国来说，已经属于一项十分巨大的突破了。

　　要知道，世界上能造光刻机的公司，如果只算最出名的，那就是阿斯麦尔、尼康和佳能，这是TOP3，如果要算TOP4的话，那就只有魔都微电子能排上号了。

　　甚至因为外国基本不给华国卖光刻机，只给卖DUV，以至于魔都微电子的光刻机在国内市占率高达80%，从某种程度上来说，算得上是“赢麻了”。

　　当然，也正是魔都微电子所作出的这种突破，才使得国外厂商生出忌惮，很大一部分程度上才使得阿斯麦尔一改往日态度，批准了DUV光刻机的对华出售，为华国带来了一定的缓解。

　　也正因为如此，这位杨凯平对于华国光刻机的贡献，也十分大。

　　在之前的工作中，林晓因为一直搞技术攻克，所以就有不少事情都是由杨凯平负责协调的。

　　电话很快接通，林晓便和杨凯平谈起了过年安排的事项，无非就是过年放不放假的事情，这件事情很好商量，反正全看他们的决定，于是三言两语下，便决定了假期放到过年之后。

　　之后，通知的事情就交给杨凯平了，而林晓则还有自己的事情要干，那就是询问一下各组成员技术攻关的问题。

　　首先，林晓便打电话给了机械结构组的组长，魔都光机所的陈远春院士。

　　机械结构组除了负责协调机械结构的安排之外，同样也承担了双工作

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